Con el objetivo de atenuar el micro haz del acelerador Tandar, se propuso un método para la elaboración de filtros de tantalio. Estos consisten en una lámina del metal con un espesor de 70 mm y un patrón de perforaciones de 100 mm de diámetro aproximadamente. Para obtener dichos filtros se consideraron distintas técnicas, entre ellas: ablación láser y ataques químicos selectivos, resultando esta última la de mayor factibilidad de realización. El patrón de perforaciones en la lámina de tantalio se logró mediante ataques químicos selectivos utilizando el método de fotolitografía. La mezcla utilizada fue HF:HNO₃ en proporción 1:1. Debido a la fuerza ácida de la misma, se debieron realizar ataques en forma sucesiva alternadamente con la fotolitografía, para ello se utilizó el alineador de máscaras de la sala limpia del Departamento de Micro y Nanotecnología (CNEA). La lámina perforada se caracterizó con perfilometría óptica, microscopía óptica y microscopía electrónica de barrido.